Scalable automatical silar method for obtaining nanostructured zinc oxide layers
Вантажиться...
Дата
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник/консультант
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
Анотація
Опис
Ключові слова
thin-film technologies, nanostructured semiconductor materials, Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction, SILAR, method for depositing semiconductor thin films, scalable automatic SILAR method, universal motorized computer numerical control platform, 3D printers, nanostructured films of zinc oxide, тонкоплівкові технології, наноструктуровані напівпровідникові матеріали, послідовна адсорбція та реакція іонного шару, метод осадження тонких напівпровідникових плівок, масштабований автоматичний метод SILAR, універсальна моторизована комп'ютерна платформа ЧПУ, 3D принтери, наноструктуровані плівки оксиду цинку
Бібліографічний опис
Scalable automatical silar method for obtaining nanostructured zinc oxide layers / V. M. Sukhov, S. I. Petrushenko, M. Fijalkowski, N. P. Klochko, V. R. Kopach, S. V. Dukarov // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : тези доп. 31-ї Міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD-2023, 17-20 травня 2023 р. / ред. Є. І. Сокол ; уклад. Г. В. Лісачук. – Харків : НТУ "ХПІ", 2023. – С. 453.