Error sources in a pyrometric system for controlling the parameters of A3B5 heterostructures during epitaxial growth
Loading...
Date
Authors
ORCID
DOI
item.page.thesis.degree.name
item.page.thesis.degree.level
item.page.thesis.degree.discipline
item.page.thesis.degree.department
item.page.thesis.degree.grantor
item.page.thesis.degree.advisor
item.page.thesis.degree.committeeMember
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
Abstract
Description
Keywords
pyrometric systems, compound semiconductors, epitaxial growth, heterostructures, metalorganic chemical vapour deposition, temperature repeatability, temperature control system, measure of thermal radiation, pyrometry method, ambient temperature, spectral sensitivity of the photodiode, temperature dependence of the spectral sensitivity, thin-film structures, пірометричні системи, складні напівпровідники, епітаксіальний ріст, гетероструктури, металоорганічне хімічне осадження з парової фази, температурна повторюваність, система контролю температури, вимірювання теплового випромінювання, метод пірометрії, температура навколишнього середовища, спектральна чутливість фотодіода, температурна залежність спектральної чутливості, тонкоплівкові структури
Citation
Voronko A. O. Error sources in a pyrometric system for controlling the parameters of A3B5 heterostructures during epitaxial growth / A. O. Voronko, D. O. Novikov // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : тези доп. 31-ї Міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD-2023, 17-20 травня 2023 р. / ред. Є. І. Сокол ; уклад. Г. В. Лісачук. – Харків : НТУ "ХПІ", 2023. – С. 445.