Кафедра "Менеджмент"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/7475

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/mto

Від грудня 2021 року кафедра має назву "Менеджмент", попередня назва – "Менеджмент та оподаткування".

Кафедра "Менеджмент та оподаткування" заснована у 1991 році, добре відомим в Україні організатором науки та освіти, доктором технічних наук, заслуженим діячем науки і техніки України, академіком Леонідом Миколайовичем Івіним та є першою в Україні кафедрою менеджменту.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту економіки, менеджменту і міжнародного бізнесу Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За понад 30-річний період кафедрою здійснено підготовку і випуск понад 2000 фахівців в області менеджменту.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора економічних наук, 23 кандидата наук: 18 –економічних, 2 – технічних, 1 – фізико-математичних, 1 – педагогічних, 1 – наук з державного управління; 2 співробітника мають звання професора, 18 – доцента. Викладачі кафедри мають практичний міжнародний досвід та володіють англійською мовою, що дає змогу проводити навчання як українською, так і англійською мовами.

Переглянути

Фільтри

19991

Налаштування

Автор: search.filters.author.Федоренко, А. И.Ключові слова: search.filters.subject.стехиометрия

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    Низкотемпературная решеточная нестабильность SnTe
    (Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б. І. Вєркіна, 1999) Нащекина, Ольга Николаевна; Исакина, А. П.; Прохватилов, А. И.; Рогачева, Елена Ивановна; Федоренко, А. И.
    При нагреве в интервале 80–290 К получены температурные зависимости параметра элементарной ячейки a(Е) теллурида олова с различной степенью отклонения от стехиометрии. Для образца стехиометрического состава (50 ат. % Te) на зависимости a(T) в области 90–100 К обнаружена аномалия, по-видимому, соответствующая известному сегнетоэлектрическому фазовому переходу (ФП). При 50,4 ат. % Te в интервалах 135150 К и 200–215 К наблюдаются резко выраженные скачки параметра Δa/a ≈ 0,015), отвечающие отрицательному коэффициенту теплового расширения. При дальнейшем увеличении степени отклонения от стехиометрии (50,8 ат. % Te) указанные эффекты менее выражены. Неустойчивость кристаллической решетки в определенных температурных интервалах связывается с фазовыми переходами в подсистеме собственных дефектов – нестехиометрических вакансий, – обусловленными их перераспределением по катионной подрешетке при изменении температуры и состава. Выясняется роль релаксационных явлений в процессе перестройки дефектной подсистемы кристалла.