Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4703

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fmp

Від 2002 року кафедра має назву "Фізика металів і напівпровідників", попередня назва – кафедра металофізики.

Кафедра металофізики організована в 1930 році у складі фізико-механічного факультету ХММІ. Деканом факультету був у ті роки видатний вчений-фізик, академік Іван Васильович Обреїмов.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За час існування кафедрою підготовлено близько 3000 інженерів, у тому числі і для зарубіжних країн.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора та 2 кандидата фізико-математичних наук; 3 співробітника мають звання професора.

Переглянути

Фільтри

2007 - 200912010 - 20112

Налаштування

Автор: search.filters.author.Artyukov, I. A.Містить файли: Так

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 3 з 3
  • Ескіз
    Документ
    Analysis of 46.9-nm Pulsed Laser Radiation Aftereffects in Sc/Si Multilayer X-Ray Mirrors
    (Springer, 2007) Pershyn, Yuriy P.; Voronov, D. L.; Zubarev, Evgeniy N.; Sevryukova, V. A.; Kondratenko, V. V.; Vaschenko, G.; Grisham, M.; Menoni, C. S.; Rocca, J. J.; Vinogradov, A. V.; Artyukov, I. A.; Uspenskii, Yu. A.
    Specific structural changes in Sc/Si multilayers (MLs) irradiated by nanosecond 46.9-nm single laser pulses with fluences of 0.04-5.00 J/cm2 were studied by methods of SEM and cross-sectional TEM. The threshold damage was found to be 0.08 J/cm2 The ML melts down under the fluence F >0.08 J/cm2 and the exothermic reaction of silicide formation starts. Main degradation mechanisms of MLs are discussed. The results of this study can be used for development of advanced multilayer mirrors capable handling the intense radiation conditions of new generation coherent X-ray sources.
  • Ескіз
    Документ
    The influence of working gas pressure on interlayer mixing in magnetron-deposited Mo/Si multilayers
    (American Institute of Physics, 2011) Pershyn, Yuriy P.; Gullikson, E. M.; Artyukov, I. A.; Kondratenko, V. V.; Sevryukova, V. A.; Voronov, D. L.; Zubarev, Evgeniy N.; Vinogradov, A. V.
    Impact of Ar gas pressure (1−4 mTorr) on the growth of amorphous interlayers in Mo/Si multilayers deposited by magnetron sputtering was investigated by small-angle x-ray scattering (l=0.154 nm) and methods of cross-sectional transmission electron microscopy. Some reduction of thickness of the amorphous inter-layers with Ar pressure increase was found, while composition of the layers was enriched with molybdenum. The interface modification resulted in raise of EUV reflectance of the Mo/Si multilayers
  • Ескіз
    Документ
    Soft X-ray imaging of thick carbon-based materials using the normal incidence multilayer optics
    (Elsevier Ltd, 2010) Artyukov, I. A.; Feschenko, R. M.; Vinogradov, A. V.; Bugayev, Ye. A.; Devizenko, O. Y.; Kondratenko, V. V.; Kasyanov, Yu. S.; Hatano, T.; Yamamoto, M.; Saveliev, S. V.
    The high transparency of carbon-containing materials in the spectral region of “carbon window” (∼4.5–5 nm) introduces new opportunities for various soft X-ray microscopy applications. The development of efficient multilayer coated X-ray optics operating at the wavelengths of about 4.5nm has stimulated a series of our imaging experiments to study thick biological and synthetic objects. Our experimental set-up consisted of a laser plasma X-ray source generated with the 2nd harmonics of Nd–glass laser, scandium-based thin-film filters, Co/C multilayer mirror and X-ray film UF-4. All soft X-ray images were produced with a single nanosecond exposure and demonstrated appropriate absorption contrast and detector-limited spatial resolution. A special attention was paid to the 3D imaging of thick low-density foam materials to be used in design of laser fusion targets