Вплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів
Вантажиться...
Дата
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник/консультант
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
Анотація
Опис
Ключові слова
технологічні параметри, плазмоелектричний покрив, плазмо-електролітне оксидування, довільно падаюча потужність, гальваностатичний режим
Бібліографічний опис
Вплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів / Севидова О. К., Гуцаленко Ю. Г., Руднєв О. В., Пупань Л. І. // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : наук. вид. : тези доп. 27-ї міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD–2019, [15-17 травня 2019 р.] : у 4 ч. Ч. 1 / ред. Є. І. Сокол. – Харків : НТУ "ХПІ", 2019. – C. 148.