Вплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів
Дата
2019
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
Анотація
Опис
Ключові слова
технологічні параметри, плазмоелектричний покрив, плазмо-електролітне оксидування, довільно падаюча потужність, гальваностатичний режим
Бібліографічний опис
Вплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів / Севидова О. К., Гуцаленко Ю. Г., Руднєв О. В., Пупань Л. І. // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : наук. вид. : тези доп. 27-ї міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD–2019, [15-17 травня 2019 р.] : у 4 ч. Ч. 1 / ред. Є. І. Сокол. – Харків : НТУ "ХПІ", 2019. – C. 148.