Электронно-микроскопическое исследование тонкопленочных лазерных конденсатов HfO₂
dc.contributor.author | Багмут, Александр Григорьевич | ru |
dc.contributor.author | Багмут, Иван Александрович | ru |
dc.contributor.author | Жучков, Василий Анатольевич | ru |
dc.contributor.author | Шевченко, М. О. | ru |
dc.date.accessioned | 2017-08-11T08:57:19Z | |
dc.date.available | 2017-08-11T08:57:19Z | |
dc.date.issued | 2012 | |
dc.description.abstract | Методами просвечивающей электронной микроскопии и электронографии исследованы пленки диоксида гафния, полученные импульсным лазерным распылением Hf в атмосфере кислорода. Выявлены условия образования аморфной фазы, а также тетрагональной и моноклинной модификации HfO₂. На ориентирующих подложках кристаллическая фаза формируется при более низких температурах по сравнению с нейтральными подложками. Эффект эпитаксии проявляется для тетрагональной модификации HfO₂. При отжиге на воздухе аморфная пленка кристаллизуется с образованием моноклинной модификации HfO₂. | ru |
dc.identifier.citation | Электронно-микроскопическое исследование тонкопленочных лазерных конденсатов HfO₂ / А. Г. Багмут [и др.] // Письма в Журнал технической физики. – 2012. – Т. 38, вып. 1. – С. 45-50. | ru |
dc.identifier.uri | https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/30779 | |
dc.language.iso | ru | |
dc.publisher | Наука | ru |
dc.subject | диоксид гафния | ru |
dc.subject | модификация моноклинная | ru |
dc.subject | эпитаксия гидридная | ru |
dc.subject | наслаивание молекулярное | ru |
dc.subject | осаждение импульсное | ru |
dc.subject | осаждение лазерное | ru |
dc.title | Электронно-микроскопическое исследование тонкопленочных лазерных конденсатов HfO₂ | ru |
dc.type | Article | en |
Файли
Контейнер файлів
1 - 1 з 1
- Назва:
- Pisma_v_ZhTF_2012_38_1_Bagmut_Elektronno-mikroskopicheskoe.pdf
- Розмір:
- 574.15 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
- Опис:
Ліцензійна угода
1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 11.23 KB
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: