Кафедри
Постійне посилання на розділhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/35393
Переглянути
2 результатів
Результати пошуку
Документ A study of an effect of the parameters of niobium-based ion cleaning of a surface on its structure and properties(PC тесhnology сеntеr, 2017) Postelnyk, H. O.; Knyazev, S.; Meylekhov, A. A.; Stolbovoy, V. A.; Kovteba, D. V.The paper describes using techniques of structural engineering in a comprehensive study of the effects of the negative displacement potential, nitrogen and argon pressures, as well as the distance from a sample to the cathode on the processes of sputtering and depositing. In practice, it is highly important to obtain steel surfaces with high mechanical properties and low roughness. The highest microhardness is manifested at the highest degree of sputtering on the samples at Ub=–1,300 V. It has been determined that the presence of nitrogen in the vacuum chamber shifts the equilibrium point of sputtering and depositing towards a higher Ub. It has been established that the presence of argon in the ion bombardment process increases the sputtering rate, whereas the presence of active nitrogen gas reduces the deposition rate due to nitride formations on the surface. The point “sputtering-depositing” shifts: in the case of Ar (from Ub=–350 V to Ub=–200...–300 V) when the RN increases from 0.002 Pa to 0.66 Pa, respectively. In the case of nitrogen, when PN increase from 0.02 Pa to 0.08 Pa, the point shifts from Ub=–400 V to Ub=–600 V (at a distance of 300 mm from the cathode to the sample).Документ Исследование влияния распыления подложки ионами ниобия на её механические свойства(Jerozolimskie, Poland, 2016) Надтока, Владимир Николаевич; Андреев, Анатолий Афанасьевич; Соболь, Олег Валентинович; Столбовой, Вячеслав Александрович; Постельник, Анна Александровна; Князев, Сергей АнатольевичПроведено исследование влияния отрицательного потенциала подложки в вакуумно-ду-говой плазме, давления в вакуумной камере, присутствия аргона и азота, а также расстояния "подложка – катод" на скорость распыления ионами ниобия поверхности подложки и её механические характеристики. Показано, что присутствие аргона в вакуумной камере в пределах 0,04…0,66 Па увеличивает скорость распыления. Присутствие азота приводит к уменьшению скорости распыления. Установлено, что бомбар-дировка ионами испаряемого материала поверхности подложки приводит к увеличению ее твердости. Причиной увеличения твердости является насыщение ее поверхности атомами ниобия, а в присутствии азота дополнительно атомами азота.